最新情報
- 09月12日・・・米国の特許改正法案が上院で再可決され、大統領の署名待ち
- 07月08日・・・国際出願手数料などのPCT関連手数料が改定
- 07月08日・・・特許出願の審査請求料が引き下げられます
- 06月18日・・・特許審査ハイウェイ申請要件を緩和した試行プログラムを開始
- 06月03日・・・日本とメキシコとの特許審査ハイウェイの試行が開始
米国の特許改正法案が上院で再可決され、大統領の署名待ち
米国で先発明主義から先願主義への移行、特許付与後の異議申立制度(post-grant review)などの大きな改正を含んだ下院の特許改正法案(The Leahy-Smith America Invents Act (AIA), H.R. 1249)が、2011年9月8日に上院において再可決されました。
Leahy-Smith America Invents Act Implementation(United States Patent and Trademark Office)
2011年09月12日 |
カテゴリ: 特許関連
国際出願手数料などのPCT関連手数料が改定
平成23年8月1日から日本の特許庁にPCTに基づく国際出願をする場合の国際出願手数料や国際予備審査請求した場合の取扱手数料が上がります。
国際出願手数料は日本の特許庁が受理官庁である場合に徴収する国際事務局のための手数料であり、取扱手数料は日本の特許庁が国際予備審査機関の場合に徴収する国際事務局のための手数料であり、いずれもスイスにある国際事務局に対する手数料です。
これらの国際事務局のための手数料は、スイス・フランに相当する本邦通貨の金額として決められるので(例えば国際出願の書類の用紙の数が30枚以内の場合の国際出願手数料は、1,330スイス・フランに相当する円の金額)、日本円とスイス・フラン間の為替レートの変動の影響を受けます。
日本円とスイス・フラン間の為替レートに変動があった場合には、国際出願手数料などについて新たな額が決められて、PCT GAZETTEというものに掲載されます。
原則、PCT GAZETTEに掲載されてから2ヶ月後に新たな額が適用されることになります。
2011年07月08日 |
カテゴリ: 特許関連
特許出願の審査請求料が引き下げられます
特許出願の審査請求手続の手数料の額について定める特許法等関係手数料令が改正され、平成23年8月1日から施行されることになりました。
これにより、平成23年8月1日以降にされる出願審査請求手続について、通常の特許出願では基本料金が168,600円から118,000円に引き下げられることになりました。
2011年07月08日 |
カテゴリ: 特許関連
特許審査ハイウェイ申請要件を緩和した試行プログラムを開始
日本を含む米国、英国、カナダ、オーストラリア、フィンランド、ロシア、スペインの8か国で、特許審査ハイウェイ(PPH)申請の要件を緩和する「PPH MOTTAINAI」試行プログラムを2011年7月15日から開始することで合意しました。
申請要件を緩和した特許審査ハイウェイ試行プログラム7月15日から開始~「PPH MOTTAINAI」試行プログラム~(METI/経済産業省)
PPH MOTTAINAI Pilot Set to Launch in July(Easing of PPH Requirements) (JPO)
これまでの特許審査ハイウェイでは、原則、出願人が最も早く特許出願をした国(第1国)で特許権を取得することが可能と判断された審査結果に基づいてしか、他の国で申請が認められませんでした。
そのために第1国で特許可能であるとの審査結果がなかなか得られないと、他の国で特許審査ハイウェイの申請をすることができませんでした。
それじゃMOTTAINAI(もったいない)ということで、今回の「PPH MOTTAINAI」試行プログラムでは、第1国に限らず、プログラムの参加国において特許可能との審査結果が得られた場合には、その審査結果を利用した特許審査ハイウェイの申請を可能としました。
例えば、プログラムの参加国である第2国で第1国よりも先に特許可能との審査結果が得られた場合には、その第2国での審査結果に基づいて第1国に特許審査ハイウェイを申請することが認められる可能性もあるようです。
2011年06月18日 |
カテゴリ: 特許関連
日本とメキシコとの特許審査ハイウェイの試行が開始
日本とメキシコとの特許審査ハイウェイの試行が2011年7月1日から開始されることが、日本の特許庁長官とメキシコの産業財産庁長官の会談で合意されたとのことです。
合意された特許審査ハイウェイの試行は、日本の特許庁またはメキシコの産業財産庁で特許可能と判断された出願、及び、日本の特許庁が、国際調査機関・国際予備審査機関として、特許性を有するとの見解を示した国際特許出願を対象とするものです。
メキシコとの特許審査ハイウェイ、7月から試行開始(METI/経済産業省)
Patent Prosecution Highway Pilot Program between the Mexican Institute of Industrial Property (IMPI) and the Japan Patent Office (JPO)(メキシコ産業財産庁サイト)
2011年06月03日 |
カテゴリ: 特許関連
特許法等の一部を改正する法律案などが可決
第177回通常国会に提出された「特許法等の一部を改正する法律案」,「不正競争防止法の一部を改正する法律案」が、参議院で可決された後、本日、平成23年5月31日に衆議院の本会議で可決され、成立しました。
特許法等の改正の概要は、通常実施権の登録対抗制度の見直し、共同研究等の成果に関する発明者の適切な保護、中小企業等に対する特許料の減免期間の延長、発明の新規性喪失の例外規定の見直し、紛争の迅速・効率的な解決のための審判制度の見直しなどです。
不正競争防止法の改正の概要は、営業秘密侵害罪に係る刑事訴訟手続において、営業秘密を適切に保護するための措置等です。
この後、法律に法律番号が付与されて、法律を国民一般に周知させるために公布されることになります。
そして、公布の日から起算して1年(不正競争防止法のほうは6月)を超えない範囲内において政令で定める日から、法律が施行される(法律が現実に発動し、作用する)ことになります。
特許法等の改正については、もう少し詳しく弊所サイトで後日説明する予定です。
2011年05月31日 |
カテゴリ: 知的財産関連
日本とスウェーデンとの特許審査ハイウェイ(PCT-PPH)の試行開始
日本の特許庁は、スウェーデン特許登録庁とPCT出願(国際特許出願)の国際段階成果物を利用する特許審査ハイウェイ(PCT-PPH)プログラムの試行を平成23年6月1日から開始することで合意したとのことです。試行期間は2年間の予定。
スウェーデン特許登録庁は米国特許商標庁との間でも特許審査ハイウェイ(PCT-PPH)プログラムの試行を同様に開始するそうです。
スウェーデンとの特許審査ハイウェイ、6月から試行開始(METI/経済産業省)
PPH-PCT between Sweden and Japan(スウェーデン特許登録庁)
スウェーデン特許登録庁(PRV)への申請のガイドライン(PDF)
また、カタールがPCT(特許協力条約)の143番目の加盟国になりました。
2011年05月26日 |
カテゴリ: 特許関連
特許庁による意匠審査基準の一部改訂案に対する意見募集について
特許庁では、部分意匠の図面提出要件の見直し及び画面デザインの登録要件の明確化に関する意匠審査基準の改訂案について意見募集を平成23年6月20日まで行っています。
「意匠審査基準の一部改訂案に対する意見募集」(特許庁)
意匠法を改正しなくてもすむ範囲で、審査基準を改訂して、運用を早めに改善しようということで、改訂意匠審査基準の運用開始日を、最終版の公表(7月中予定)と同時に定めて速やかに適用を開始するとのことです。
部分意匠の図面提出要件の見直しは、出願人の負担軽減を図るために、部分意匠の意匠登録出願で、提出を省略しても意匠の特定に影響がない図の省略を可能とする改訂です。
例えば、意匠法2条2項に基づいてチューナー付磁気ディスクレコーダーと一体として用いられる表示機器に表示される操作用の画像を部分意匠として出願する場合には、磁気ディスクレコーダー本体の形態を表わした一組の図面は、願書の【意匠の説明】の欄に「意匠に係る物品全体の形態を表わす一組の図面は、意匠登録を受けようとする部分が表れないため、省略する。」と記載することで、省略できるようにするそうです。
また、意匠登録を受けようとする部分以外の部分(その他の部分)のみが表れる図のうち、「正面図又は背面図のいずれか一方」、「左右側面図のいずれか一方」、「平面図又は底面図のいずれか一方」は、【意匠の説明】に省略した図の説明をすることで、省略できるようにするそうです。
この場合、6面図中最低限必要な3図を提出すれば、手続補正指令は行われないとのことです。
画面デザインの登録要件の明確化は、具体的には、意匠法2条1項により保護される表示画像の保護要件の明確化と、変化する画像について、どのような要件を満たす場合に複数の画像を含んだ状態で一意匠と認定されるかについての明確化です。
2011年05月24日 |
カテゴリ: 知的財産関連
2010年特許出願件数及び特許登録件数などについて
特許庁から2010年1月~12月の日本における出願件数と登録件数が公表されました。
「2010年出願件数及び登録件数について」(特許庁)(リンク先消滅)
2000年から2010年までの特許出願の件数と特許登録の件数の推移をグラフに表してみました。特許出願の件数は2006年あたりから減ってきています。2009年にガクンと出願件数が落ち、2010年の特許出願件数は2009年とほぼ同程度の344,598件(前年対比98.85%)であったとのことです。
その一方で特許登録の件数は2010年も222,693件(前年対比115.2%)と増加し続けていますが、これは数年前の審査請求の件数が多かったころの推移と関連しているのではないかと思います。2009年には審査請求の件数も大きく減っているようなので、特許登録の件数がこのままずっと上がり続けていくようなことはないのではと思います。
2011年05月20日 |
カテゴリ: 特許関連
日中特許審査ハイウェイのプレパイロット(検証作業)開始
5月4日に北京で行われた日中特許庁長官会合で、日本と中国との間の特許審査ハイウェイ(PPH(Patent Prosecution Highway))について一定数の案件を用いたプレパイロット(検証作業)に着手することが確認されました。
日中特許庁長官会合において審査協力の更なる強化を確認~「日中特許審査ハイウェイ」・プレパイロット開始~(METI/経済産業省)
SIPO and JPO to Commence a Pre-Pilot of Patent Prosecution Highway between Both Offices(中国国家知識産権局)
プレパイロットは、特許審査ハイウェイの試行に先立って行われるもので、それぞれの国での特許審査ハイウェイにおける内部手順を確認するためのものであるそうです。
日中特許審査ハイウェイの試行が始まれば、一般の利用も可能になります。
日中特許審査ハイウェイの試行が開始されると、日本で特許権が取得可能であると判断された特許出願については、中国で出願人が特許審査ハイウェイの申請をすれば簡易な手続で早期に審査を受けることができるようになります。またその逆も可能になります。
2011年05月11日 |
カテゴリ: 特許関連

